Urządzenie do osadzania warstw techniką PVD – prezentacja

---

Akademickie Centrum Materiałów i Nanotechnologii AGH zaprasza studentów, doktorantów i pracowników na prezentację urządzenia do osadzania warstw techniką PVD (physical vapor deposition), która odbędzie się 30 listopada 2016 r. o godz. 11.00.

Jednym z zastosowań urządzenia jest wytwarzanie cienkowarstwowych struktur magnetycznych wykazujących m.in. efekt GMR lub AMR. Spotkanie poprowadzi przedstawiciel firmy Veeco.

Miejsce: ACMiN, budynek D-16, sala audytoryjna

---